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• 000 01532nam2 2200385 4500

• 000 0000308349

• 001 0000252917

• 005 20140324173059.0

• 010 __ |a 978-7-03-036731-0 |d CNY96.00

• 100 __ |a 20140324d2013 em y0chiy50 ea

• 101 0_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a ak a 001yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 薄膜生长 |A bao mo sheng zhang |f 吴自勤, 王兵, 孙霞著

• 205 __ |a 第2版

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2013

• 215 __ |a xiv, 355页 |c 图 |d 24cm

• 225 2_ |a 现代物理基础丛书 |A xian dai wu li ji chu cong shu |v 54

• 320 __ |a 有书目和索引

• 330 __ |a 本书集中介绍了薄膜科学中的关键部分 —— 薄膜生长。全书由五个方面15章的内容组成: 第一至四章主要从薄膜的角度介绍相平衡和晶体表面原子结构的基础知识。第五至七章主要介绍薄膜中的缺陷和扩散。第八、九章主要介绍薄膜生长的三种模式和成核长大动理学。第十至十三章主要介绍金属薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜的生长和生长中出现的分形现象。第十四、十五章介绍薄膜制备和研究的各种方法。

• 410 _0 |1 2001 |a 现代物理基础丛书 |v 54

• 606 0_ |a 薄膜生长 |A bao mo sheng zhang

• 690 __ |a O484.1 |v 5

• 701 _0 |a 孙霞 |A sun xia |4 著

• 701 _0 |a 吴自勤 |A wu zi qin |4 著

• 701 _0 |a 王兵 |A wang bing |4 著

• 801 _0 |a CN |b |c 20140324

• 905 __ |a DQNU |d O484.1/W99#2

• 909 __ |a 01058287 |b 平装 |f O484.1/W99 |x ZRKX |e 001 |j 01

• 909 __ |a 01058285 |b 平装 |f O484.1/W99 |x YBS |e 001 |j 01

• 909 __ |a 01058286 |b 平装 |f O484.1/W99 |x ZRKX |e 001 |j 01

• 991 __

• 995 __ |a DQNU |b 01058285-87 |f O484.1/W99 |s 3

• 999 __ |t C |A shsd2 |a 20140324 17:26:02 |M shsd2 |m 20140324 17:30:5