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- 010 __ |a 978-7-5628-2226-4 |d CNY28.00
- 035 __ |a (021002)012008002621
- 100 __ |a 20080624d em y0chiy0110 ea
- 200 1_ |a 表面分析(XPS和AES)引论 |9 biao mian fen xi (XPS he AES) yin lun |d An introduction to surface analysis by XPS and AES |f (英)John F. Watts,(英)John Wolstenholme原著 |g 吴正龙译 |z eng
- 210 __ |a 上海 |c 华东理工大学出版社 |d 2008
- 215 __ |a 144页 |c 图 |d 24cm
- 330 __ |a 本书讲述了现代电子能谱中的单色化XPS、小面积XPS(SAXPS)、成像XPS、XPS深度剖析、场发射AES/SAM等功能的分析技术,以及在冶金、腐蚀、陶瓷、催化剂、微电子半导体材料等领域中的应用。
- 461 _0 |1 2001 |a 当代材料科学与工程译丛
- 510 1_ |a Introduction to surface analysis by XPS and AES |z eng
- 701 _1 |c (英) |a Watts |b John F. |4 原著
- 701 _1 |c (英) |a Wolstenholme |b John |4 原著
- 702 _0 |a 吴正龙 |9 wu zheng long |4 译
- 801 _0 |a CN |b |c 20080624
- 905 __ |a DQNU |d O655.9/W69
- 995 __ |a ST |f O655.9/W69 |s 3
- 999 __ |t C |A wanglei |a 20080624 14:15:32 |M wanglei |m 20080624 14:16:20 |G wanglei |g 20080624 14:16:4