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- 题名/责任者:
- 表面分析(XPS和AES)引论/(英)John F. Watts,(英)John Wolstenholme原著 吴正龙译
- 出版发行项:
- 上海:华东理工大学出版社,2008
- ISBN及定价:
- 978-7-5628-2226-4/CNY28.00
- 载体形态项:
- 144页:图;24cm
- 丛编项:
- 当代材料科学与工程译丛
- 个人责任者:
- (英) Watts John F. 原著
- 个人责任者:
- (英) Wolstenholme John 原著
- 个人次要责任者:
- 吴正龙 译
- 学科主题:
- 表面分析
- 中图法分类号:
- O655.9
- 版本附注:
- 由Wiley公司授权出版
- 提要文摘附注:
- 本书讲述了现代电子能谱中的单色化XPS、小面积XPS(SAXPS)、成像XPS、XPS深度剖析、场发射AES/SAM等功能的分析技术,以及在冶金、腐蚀、陶瓷、催化剂、微电子半导体材料等领域中的应用。
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索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 |
O655.9/W69 | 00635972 | 语言、自然科学阅览室 | 可借 | |
O655.9/W69 | 00635973 | 语言、自然科学阅览室 | 可借 | |
O655.9/W69 | 00635964 | 样本书阅览室 | 可借 |
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