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MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:6

题名/责任者:
应用光学/胡玉禧编著
版本说明:
2版
出版发行项:
合肥:中国科学技术大学出版社,2009
ISBN及定价:
978-7-312-02287-6/CNY33.00
载体形态项:
337页:图;23cm
个人责任者:
胡玉禧 编著
学科主题:
应用光学-研究生-入学考试-自学参考资料
中图法分类号:
O439
一般附注:
中国科学院指定考研参考书
提要文摘附注:
全书内容分三部分:第一部分是光学成像基本理论,主要讲授高斯光学与各种光学元件的成像特性,简单介绍像质评价和光能计算方法;第二部分主要讲授各种应用光学系统,除经典的目视、摄像、投影光学系统外,还包括激光、光纤和红外等现代应用光学系统;第三部分讲授光学系统设计方法,系统介绍光学系统设计的全过程,包括总体方案选择、外形尺寸计算、像差平衡和光学制造技术条件制定等具体方法。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
O439/H68#1 00754166   语言、自然科学阅览室     可借
O439/H68#1 00754167   语言、自然科学阅览室     可借
O439/H68#1 00754165   样本书阅览室     可借
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