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题名/责任者:

薄膜技术与薄膜材料/石玉龙，闫凤英编著

出版发行项:

北京:化学工业出版社,2015

ISBN及定价:

978-7-122-22618-1/CNY30.00

载体形态项:

242页;21cm

个人责任者:

石玉龙 (1947-) 编著

个人责任者:

闫凤英 编著

学科主题:

薄膜技术

学科主题:

薄膜-工程材料

中图法分类号:

TB43

提要文摘附注:

本书共分4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术（包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜），化学气相沉积技术（包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等），硬膜及超硬膜的制备技术（金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等），以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术（包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化、电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容）。

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