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MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:22

题名/责任者:
版画基础/杨凯, 黄新霞, 刘丽晶主编
出版发行项:
北京:航空工业出版社,2021
ISBN及定价:
978-7-5165-2432-9/CNY76.00
载体形态项:
169页:图,彩照;29cm
个人责任者:
杨凯 主编
个人责任者:
黄新霞 主编
个人责任者:
刘丽晶 主编
学科主题:
版画技法
中图法分类号:
J217
一般附注:
“互联网+”新形态一体化精品 设计理论
提要文摘附注:
本书包括版画的概念与基础、版画的技法与创作、版画的欣赏与分析三个章节,梳理了版画艺术的发展脉络,分析了版画艺术的创作特点,对版画艺术的思维、技术和媒介做了及时更新,展现了版画艺术历久弥新的生命力。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
J217/Y19 01312886   样本书阅览室     非可借 样本书阅览室
J217/Y19 01312887   社会科学阅览室     可借 社会科学阅览室
J217/Y19 01312888   社会科学阅览室     可借 社会科学阅览室
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